光致產(chǎn)酸劑（PAG）又稱光致酸產(chǎn)生劑，簡稱光酸，是一類在光、射線、等離子體等輻射下能分解生成特定酸的物質(zhì)。
　　光致產(chǎn)酸劑可分為離子型光致產(chǎn)酸劑、非離子型光致產(chǎn)酸劑兩大類，以二芳基鎓碘鹽/二芳基磺酸鹽為代表的離子型光致產(chǎn)酸劑應(yīng)用較廣泛。非離子型光致產(chǎn)酸劑以磺酸酯類化合物為主要類型，其在有機(jī)溶劑、聚合物薄膜中溶解度較高，但熱穩(wěn)定性、光敏感性較差。
　　作為光敏材料，光致產(chǎn)酸劑主要應(yīng)用在半導(dǎo)體光刻膠、熱敏CTP膠、光固化涂料等領(lǐng)域。光刻膠是半導(dǎo)體核心材料之一，近年來，得益于國家政策扶持、核心技術(shù)突破，我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展加速，半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模隨之?dāng)U大，2023年達(dá)百億元以上。半導(dǎo)體光刻膠主要由光敏材料、樹脂、溶劑等組成，隨著光刻膠市場發(fā)展，半導(dǎo)體光刻膠用光敏材料市場需求空間隨之?dāng)U大。
　　光致產(chǎn)酸劑、感光化合物（PAC）是目前半導(dǎo)體光刻膠用光敏材料主要類型，其中光致產(chǎn)酸劑主要應(yīng)用在聚對羥基苯乙烯樹脂體系（KrF光刻膠）、聚甲基丙烯酸酯樹脂體系（ArF光刻膠）、EUV光刻膠等化學(xué)放大型體光刻膠中，2024年我國KrF、ArF、EUV等光刻膠所用光致產(chǎn)酸劑市場需求空間將達(dá)14.5億元。
　　光致產(chǎn)酸劑行業(yè)存在一定的技術(shù)、研發(fā)壁壘，市場集中度較高，目前日美企業(yè)占據(jù)全球市場主導(dǎo)，包括賀利氏電子化學(xué)材料公司、日本San-Apro公司、東洋合成工業(yè)株式會社、光純藥株式會社、日本富士膠片株式會社等企業(yè)。長期以來，我國光致產(chǎn)酸劑市場需求依賴進(jìn)口，進(jìn)口光致產(chǎn)酸劑價(jià)格高、供貨周期長，嚴(yán)重制約了國產(chǎn)半導(dǎo)體光刻膠的發(fā)展。
　　近年來，在國產(chǎn)替代背景下，我國光致產(chǎn)酸劑產(chǎn)業(yè)化逐漸實(shí)現(xiàn)突破，相關(guān)企業(yè)包括威邁芯材、萬潤股份、強(qiáng)力新材、徐州博康等。目前萬潤股份的光致產(chǎn)酸劑已實(shí)現(xiàn)中試產(chǎn)品供應(yīng)，威邁芯材已累計(jì)交付數(shù)十款光致產(chǎn)酸劑（PAG）產(chǎn)品，其“浸沒式氟化氬光刻膠用光致產(chǎn)酸劑”獲得了“CIIF新材料獎”。
   光致產(chǎn)酸劑是重要的半導(dǎo)體光刻膠用光敏材料，隨著KrF、ArF等半導(dǎo)體光刻膠生產(chǎn)規(guī)模擴(kuò)大，光致產(chǎn)酸劑市場需求將持續(xù)釋放，行業(yè)發(fā)展空間廣闊。光致產(chǎn)酸劑技術(shù)壁壘高，全球市場由日美企業(yè)主導(dǎo)，目前我國已實(shí)現(xiàn)光致產(chǎn)酸劑產(chǎn)業(yè)化突破，在國產(chǎn)替代背景下，國產(chǎn)光致產(chǎn)酸劑將迎來廣闊發(fā)展空間。