變形電子束直寫設(shè)備又稱變形電子束光刻設(shè)備，是一種利用變形電子束在涂有抗蝕劑的襯底上進(jìn)行圖形曝光的系統(tǒng)。
  電子束直寫（光刻）技術(shù)起源于掃描電子顯微鏡，目前其已有70多年發(fā)展歷史。2023年全球電子束直寫設(shè)備市場規(guī)模約2.4億美元，預(yù)計(jì)2024-2028年市場將以5.0%左右的年均復(fù)合增長率增長。
  目前高斯束、變形束和多束電子束是常見的電子束直寫設(shè)備，其中高斯束應(yīng)用最廣泛，具有門檻較低、曝光靈活特點(diǎn)，但曝光速度慢。變形束是通過多種形狀的光闌組合形成特定圖形的面束斑，曝光面積大、曝光效率高，近年來備受半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)界青睞。
   變形電子束直寫設(shè)備具有高分辨率、無需掩模、曝光效率高等特點(diǎn)，可以應(yīng)用在半導(dǎo)體制造、衍射光學(xué)元件制造、微納器件原型開發(fā)及加工、科學(xué)研究等領(lǐng)域。在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，變形電子束直寫設(shè)備可用于制作掩模版、量子芯片結(jié)構(gòu)及先進(jìn)封裝、硅片直寫等場景。
   變形電子束直寫設(shè)備技術(shù)壁壘高，目前全球具有其生產(chǎn)能力的企業(yè)較少，主要包括德國Vistec公司、日本JEOL公司、日本Nuflare公司、日本Advantest公司等。日本Nuflare公司市場占比最高，其變形電子束直寫設(shè)備在掩模制備能力、束流密度、曝光效率等方面均處于行業(yè)領(lǐng)先水平。
   變形電子束直寫設(shè)備企業(yè)銷售對象以掩模加工廠商為主。近年來，隨著我國科研水平提升，科研機(jī)構(gòu)、院校等單位對變形電子束直寫設(shè)備的需求也不斷釋放，目前已有多家單位發(fā)布有變形電子束直寫設(shè)備采購意向，如中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所預(yù)算8000萬元采購變形電子束直寫設(shè)備，用于掩模制造。
   日本是全球最大的變形電子束直寫設(shè)備生產(chǎn)地區(qū)，我國是其主要消費(fèi)地之一。目前我國電子束直寫設(shè)備進(jìn)口依賴度高，國內(nèi)相關(guān)研發(fā)機(jī)構(gòu)包括中國科學(xué)院電工研究所、中國電子科技集團(tuán)有限公司第四十八研究所、哈爾濱工業(yè)大學(xué)等，我國科研機(jī)構(gòu)多集中于高斯束研究，在變形電子束、多束電子束方面研究較少。
   近年來，憑借高分辨率、無需掩模等優(yōu)勢，變形電子束直寫設(shè)備應(yīng)用越來越廣泛，市場空間隨之?dāng)U大。目前全球變形電子束直寫設(shè)備生產(chǎn)企業(yè)較少，日本企業(yè)在全球市場上占據(jù)著重要地位，尤其是日本Nuflare公司。我國變形電子束直寫設(shè)備市場需求依賴進(jìn)口，國產(chǎn)替代空間廣闊。