X射線(xiàn)反射鏡是一種能反射和聚焦短波長(zhǎng)X射線(xiàn)（束）的反射光學(xué)元件。X射線(xiàn)是一種波長(zhǎng)極短的電磁輻射形式，范圍在0.01-10nm之間。
　　X射線(xiàn)具有高穿透性、熒光效應(yīng)、高頻率、高能量等特點(diǎn)，在物理學(xué)、核工業(yè)、農(nóng)業(yè)、醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域具有廣泛應(yīng)用。X射線(xiàn)反射鏡可用于改變X射線(xiàn)的傳播方向，可應(yīng)用在X射線(xiàn)望遠(yuǎn)鏡、極紫外（EVU）光刻、高次諧波、X射線(xiàn)激光器、X射線(xiàn)自由電子激光裝置（XFEL裝置）、同步輻射等中。
　　X射線(xiàn)反射鏡作為同步輻射核心部件，具有準(zhǔn)直、聚焦、偏轉(zhuǎn)X射線(xiàn)等重要作用，影響著同步輻射光源的分辨率、光斑尺寸、通量等性能。同步輻射光源用X射線(xiàn)反射鏡要求極高、制備難度大，目前僅有歐美日等國(guó)家的幾家企業(yè)具有其商業(yè)化生產(chǎn)能力，我國(guó)市場(chǎng)需求依賴(lài)進(jìn)口。
　　X射線(xiàn)反射鏡可選擇硅、玻璃碳、石英玻璃等為材料。在實(shí)際應(yīng)用中，X射線(xiàn)反射鏡的聚焦、準(zhǔn)直等性能隨著高度誤差變大而降低，因此納米聚焦、超高分辨率領(lǐng)域?qū)�X射線(xiàn)反射鏡面形精度極高。近年來(lái)，隨著EEM拋光技術(shù)、離子束加工技術(shù)等技術(shù)的應(yīng)用，X射線(xiàn)反射鏡制造精度、準(zhǔn)確度在不斷提升。
　　為滿(mǎn)足下一代X射線(xiàn)望遠(yuǎn)鏡、第五代同步輻射光源等前沿應(yīng)用需求，市場(chǎng)對(duì)X射線(xiàn)反射鏡制造精度將持續(xù)提升，原子級(jí)精度X射線(xiàn)反射鏡制造將成為未來(lái)發(fā)展趨勢(shì)。
　　2025年1月，工信部發(fā)布《關(guān)于組織開(kāi)展2025年未來(lái)產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新任務(wù)揭榜掛帥工作的通知》，原子級(jí)精度X射線(xiàn)反射鏡被列入原子級(jí)制造領(lǐng)域重點(diǎn)產(chǎn)品之一，揭榜任務(wù)包括突破X射線(xiàn)反射鏡原子級(jí)精度加工關(guān)鍵技術(shù)、研發(fā)以等離子體加工和彈性發(fā)射加工為核心技術(shù)的原子級(jí)精度X射線(xiàn)反射鏡加工工藝等，預(yù)期到2026年，完成400mm尺寸X射線(xiàn)反射鏡加工裝備的研制，自主加工的X射線(xiàn)反射鏡在同步輻射、自由電子激光裝置上得到應(yīng)用。
   制造精度提高也將帶動(dòng)X射線(xiàn)反射鏡測(cè)量技術(shù)升級(jí)，目前X射線(xiàn)反射鏡測(cè)量方法主要分為拼接干涉測(cè)量技術(shù)、反射式輪廓測(cè)量技術(shù)等。X射線(xiàn)反射鏡具有準(zhǔn)直、聚焦、偏轉(zhuǎn)X射線(xiàn)等作用，在各種X射線(xiàn)分析儀器中應(yīng)用廣泛。隨著應(yīng)用需求升級(jí)，X射線(xiàn)反射鏡制造精度在不斷提升，原子級(jí)精度是其下一個(gè)發(fā)展目標(biāo)。