光刻膠又稱(chēng)光致抗蝕劑，是指通過(guò)紫外光、電子束、離子束、X射線(xiàn)等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料，是半導(dǎo)體制造中使用的核心電子材料之一。隨著晶圓制造規(guī)模持續(xù)提升，中國(guó)有望承接半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈轉(zhuǎn)移。

市場(chǎng)現(xiàn)狀

1.市場(chǎng)規(guī)模

目前，全球光刻膠市場(chǎng)已達(dá)到百億美元規(guī)模，市場(chǎng)空間廣闊。我國(guó)光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈逐步完善，且隨著下游需求的逐漸擴(kuò)大，光刻膠市場(chǎng)規(guī)模顯著增長(zhǎng)。2022年我國(guó)光刻膠市場(chǎng)規(guī)模約為98.6億元，同比增長(zhǎng)5.68%，2023年約為109.2億元。2024年我國(guó)光刻膠市場(chǎng)規(guī)模可達(dá)114.4億元。

2.市場(chǎng)結(jié)構(gòu)

我國(guó)光刻膠行業(yè)發(fā)展起步較晚，生產(chǎn)能力主要集中在PCB光刻膠、占比達(dá)94%。面板光刻膠和半導(dǎo)體光刻膠占比較少，分別為3%和2%。未來(lái)隨著光刻膠企業(yè)生產(chǎn)能力的提高，我國(guó)光刻膠生產(chǎn)結(jié)構(gòu)將會(huì)進(jìn)一步優(yōu)化。

發(fā)展前景

1.政策大力推進(jìn)光刻膠發(fā)展

為鼓勵(lì)光刻膠產(chǎn)業(yè)發(fā)展、突破產(chǎn)業(yè)瓶頸，國(guó)家陸續(xù)出臺(tái)了多項(xiàng)政策支持光刻膠行業(yè)發(fā)展，鼓勵(lì)光刻膠產(chǎn)業(yè)發(fā)展、突破產(chǎn)業(yè)瓶頸，早日實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)鏈核心技術(shù)國(guó)產(chǎn)化。如2023年3月發(fā)布的《新時(shí)期促進(jìn)集成電路產(chǎn)業(yè)和軟件產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展若干政策的通知》提出，包括生產(chǎn)光刻膠在內(nèi)的集成電路產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵原材料、零配件企業(yè)被納入享受稅收優(yōu)惠政策的清單。

2.技術(shù)突破推動(dòng)光刻膠國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程

近年來(lái)，隨著國(guó)內(nèi)科研機(jī)構(gòu)和企業(yè)對(duì)光刻膠技術(shù)的持續(xù)研發(fā)投入，已經(jīng)取得了一定的技術(shù)突破。例如，南大光電等企業(yè)在193nmArF光刻膠的研發(fā)上取得了進(jìn)展，并通過(guò)客戶(hù)使用認(rèn)證，這標(biāo)志著國(guó)產(chǎn)光刻膠技術(shù)正在逐步成熟；廈門(mén)恒坤股份自主研發(fā)的KrF、ArF光刻膠已通過(guò)大廠(chǎng)驗(yàn)證并產(chǎn)業(yè)化，目前該類(lèi)光刻膠國(guó)產(chǎn)化率不到2%。在國(guó)家政策的扶持和市場(chǎng)需求的驅(qū)動(dòng)下，國(guó)內(nèi)企業(yè)將不斷推進(jìn)技術(shù)創(chuàng)新和產(chǎn)品升級(jí)，逐步實(shí)現(xiàn)光刻膠的國(guó)產(chǎn)化。

3.下游市場(chǎng)增長(zhǎng)帶動(dòng)光刻膠生產(chǎn)

隨著5G、智慧物聯(lián)網(wǎng)時(shí)代的到來(lái)，以及產(chǎn)業(yè)發(fā)展環(huán)境完善、人才回流、政策支持、資本青睞等眾多因素，我國(guó)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)得以在眾多領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)快速與全面布局，正逐步驅(qū)使全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)從韓國(guó)、中國(guó)臺(tái)灣向中國(guó)大陸轉(zhuǎn)移。中國(guó)目前已經(jīng)成為最大的半導(dǎo)體市場(chǎng)，并繼續(xù)保持最快的增速。未來(lái)，5G、人工智能、物聯(lián)網(wǎng)等新一代信息技術(shù)的快速發(fā)展，高性能、高精度芯片的需求將更加迫切，帶動(dòng)光刻膠市場(chǎng)規(guī)模進(jìn)一步擴(kuò)大。