光刻機是一種將目標結構圖樣印刷到硅片等基底上的機器，其機理類似照片沖印過程，是半導體制造中最為重要的設備之一。光刻機的工作流程主要包括準備、涂覆、曝光、顯影、腐蝕、清洗和檢測等步驟。光刻機技術是當前半導體制造領域的關鍵技術之一，其技術水平的提升直接決定了芯片制造工藝的進步和發(fā)展。目前，全球前道光刻機市場被ASML、尼康、佳能等公司壟斷。

隨著國家對半導體產(chǎn)業(yè)的重視和投入加大，國內(nèi)光刻機企業(yè)開始加速自主研發(fā)和創(chuàng)新。上海微電子是國內(nèi)唯一一家生產(chǎn)高端前道光刻機整機的公司，已經(jīng)實現(xiàn)了90nm光刻機的量產(chǎn)，并在不斷努力突破先進制程，加速國產(chǎn)化進程。此外，國內(nèi)還有多家企業(yè)在光刻機產(chǎn)業(yè)鏈的相關零部件領域取得了突破，如光源系統(tǒng)、照明系統(tǒng)和投影物鏡等環(huán)節(jié)。